次世代の半導体クリーンルームメーカー特集~Ne;Clean~
半導体クリーンルーム・ブースの課題を解決する次世代クリーンルームメーカーを特集
いま、半導体クリーンルームは
これだけ進化しています
求められるISOクラス1に対し、高騰する一方の電気代。
半導体業界が抱える課題を解決する革新的クリーンルーム・ブースを特集しています。
※このサイトは興研株式会社をスポンサーとしてZenken株式会社が運営しています。
求められるISOクラス1に対し、高騰する一方の電気代。
半導体業界が抱える課題を解決する革新的クリーンルーム・ブースを特集しています。
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第6回ものづくり日本大賞※1「内閣総理大臣賞」
第1回ジャパン・レジリエンス・アワード（強靭化大賞）2015「ものづくり分野最優秀
レジリエンス賞」
一般社団法人 日本機械工業連合会 主催
第35回優秀省エネルギー機器表彰「日本機械工業連合会会長賞」
第44回機械工業デザイン賞「最優秀賞（経済産業大臣賞）」
日刊工業新聞社第53回十大新製品賞「本賞」
産業用マスクなどで名を馳せる興研が、マスクのフィルタ技術とプッシュプル型換気装置の整流技術を組み合わせたクリーンシステムです。数々の賞を受賞し、「日本に欲しかった破壊型イノベーション」「20年の審査で最も優れた技術開発」（第44回機械工業デザイン審査より）という評価※2を受けています。
※1本製品を開発した興研技術者が受賞しました。
※2参照元：内閣官房【PDF】 https://www.cas.go.jp/jp/seisaku/kokudo_kyoujinka/h28_minkan/pdf/2102.pdf
受賞歴参照元 参照元：第6回ものづくり日本大賞（2015年） https://www.monodzukuri.meti.go.jp/backnumber/06/index.html、
第1回ジャパン・レジリエンス・アワード（強靭化大賞）2015 https://www.resilience-jp.biz/2015/03/15/第1回ジャパン・レジリエンス・アワード（強靭化/、第35回優秀省エネルギー機器表彰（2015年） https://www.nikkan.co.jp/articles/view/00335722、
日刊工業新聞「第44回機械工業デザイン賞」（2014年） https://biz.nikkan.co.jp/cop/prize/priz08010.html、日刊工業新聞社「第53回十大新製品賞」（2010年） https://corp.nikkan.co.jp/p/honoring/archive/jyudaishinseihinshou5155
建設コスト
ランニングコスト
作業環境
清浄度管理
作業効率
入退室・搬出
コミュニケーション
天井裏の工事を伴わない箱型構造で、気密性を高める施工も不要なので、例えば100㎡規模であれば1週間程度での設置が可能です。 大掛かりな工事が不要な分、設置や建設にかかる初期コストを抑えやすい点も特長のひとつです。
清浄度の要件がそれほど厳しくない場合は他の選択肢もありますが、ISOクラス1レベルの清浄度と運用後の電力・メンテナンス負担の軽さを考慮すれば、高清浄度領域におけるコストパフォーマンスの高い選択肢といえるでしょう。
消費電力は通常のクリーンルームと比較すると約70%減。24時間常時稼働が必要なクリーンルームと異なり、スリープモードが搭載されているので、夜間や人がいないときはさらに消費電力を抑えることができます。
とある工場では年間700万円の電気代削減に、研究所では年間200万かかっていた電気代が25万にまで下がったという事例※もあります。
※参照元：KOACH会員サイト（閲覧には登録が必要です）https://area31.smp.ne.jp/area/switch/00051c0001cHjaSfhJ/member_login
通常のクリーンルームでは半年に1回程度、定期清掃が必要になります。天井・壁・床・設備のすべてを徹底的に清掃する必要があり、その費用も馬鹿になりません。
KOACHの場合は2〜5年（使用量によって異なる）に一度のフィルタ交換のみ、しかも誰でも取り替えることが可能。
閉鎖的なクリーンルームとは異なり、開放型の構造を採用することで自然光の取り込みも可能となり、作業者の快適性や心理的負担の軽減にもつながります。
また、従来のクリーンベンチで指摘されがちな作業性の低さに対応したオープンタイプのテーブル型もラインアップされており、現場の環境や業務内容に応じた柔軟な選択が可能です。
省電力設計により、電源投入後わずか1〜3分でISOクラス1の清浄度に到達できるため、生産ラインの切替や再稼働時にも支障なく運用を開始できます。
また、汚染発生後の清浄度回復も非常に迅速で、約8秒程度で元の環境を再現可能です。
粉じんの発生源と清浄エリアが明確に気流で分離されているため、環境の安定性と作業効率の両立に貢献します。
独自の気流制御技術により、複数名による同時作業を行っても作業エリア内の清浄度はISOクラス1を安定的に維持できます。そのため、周囲の作業と干渉することなく、高い効率での運用が可能です。
また、従来のクリーンベンチでは、前面ガラスや狭小な作業空間が姿勢や動作の自由を制限し、精密作業の妨げとなることがありましたが、開放型構造によりこれらの課題を解消します。
作業エリアと非作業エリアが気流によって明確に分離されており、仮に微粒子を含む物品が持ち込まれても、気流により速やかに排出されるため、パスボックスを経由せず直接持ち込む運用が可能です。
また、持ち込んだ部品や器具をその場で清浄したい場合でも、作業エリア内でクリーンガンの使用が可能であり、発生した粉じんも空間に滞留せず即時に排出されます。
外部から作業着のまま入室しても、内部の清浄度が保たれる構造のため、従来のような着替えやエアシャワーの手間が不要です。
クリーンエリア内での短時間の打ち合わせや確認作業が容易になり、作業者間のコミュニケーションや現場での情報伝達のスピードが向上します。
クリーン環境を維持しながらも、業務効率を損なわない運用が可能です。
効率化、BCP、省エネ――半導体製造の現場では、クリーン環境に求められる要件が複雑化しています。 当メディアでは、そうした多面的な課題を解決する柔軟なアプローチをまとめてご紹介します。
クリーンルームの移設・建て替えには、清浄度維持やコスト、生産停止リスクなど複雑な課題が伴います。 このページでは、それらの実情を整理し、検討時に役立つ情報をまとめました。
「移設＝作業が長期間停止」「建て替え＝高コスト」という常識は、もう変えられるかもしれません。 今、移設・拡張時の清浄度と生産性を両立できる新しいクリーン環境の選択肢が注目されています。
クリーン環境の維持には、高水準な空調管理と定期的なメンテナンスが不可欠です。
その一方で、コスト負担の高止まりが多くの現場で課題化しています。
本ページでは、コスト構造を分解し、改善の視点を整理します。
クリーンベンチのシャッターや風、作業空間の狭さに起因する作業性の課題は、現場の効率や精度に大きく影響します。
このページでは、そうした制約をどう解消できるかを具体的に解説します。
品質向上のために清浄度を上げたい。しかし、全面改修は非現実的。 そうした現場の悩みに応える局所清浄化の選択肢と、その実効性について整理します。
コンタミナントが抑えられない原因、実は設備の構造や気流にあるかもしれません。 既存のやり方で限界を感じているなら、新しい視点で対策を考えるきっかけになるはずです。
省エネ特定事業者にとって、クリーンルームの高い電力消費と維持コストは大きな課題です。
このページでは、清浄度を保ちながらエネルギー効率とコストの最適化を図る実践的な対策をご紹介します。
清浄環境の維持とBCP対策はトレードオフになりがちです。
本ページでは、設備面・コスト面・復旧時間の観点から、クリーンルームにおける事業継続の現実的な課題と対策を整理します。
地震はクリーンルームに深刻な影響を及ぼす可能性があります。
本ページでは、実際の震災事例をもとに、構造的な課題や復旧の遅れの要因を整理し、有効な対策の方向性を紹介します。
クリーンルームの清浄度を維持するための運用は、生産効率に影響を及ぼすことがあります。
このページでは、効率低下の要因を整理し、品質を保ちつつ作業性を向上させる実用的な改善策をご紹介します。
新設備の導入や品質基準の変更など、あとから局所的な清浄度向上が求められる場面は少なくありません。
本ページでは、そうしたニーズに対応するための局所クリーン化の考え方と、実践的な対策をご紹介します。
後付けでクリーンルームを導入する際には、建物構造や空調設備、コスト管理など多面的な課題が伴います。
このページでは、そうした制約を整理し、実現性の高い導入・運用のポイントを紹介します。
既存施設へのクリーンルーム後付けは、物理的制約・設備更新・運用負荷の観点から高度な調整が必要です。
本ページでは、代表的な課題を体系的に整理し、対応の方向性を解説します。
テナントビルでクリーンルームを導入するには、天井高・空調・電源・原状回復といった多くの制約があります。
このページでは、それらの課題を整理し、現実的に対応できる方法をご紹介します。
半導体製造では、化学薬品の残留やアウトガスが製品品質に影響を及ぼすリスクがあります。
このページでは、ケミカル由来の課題と、それを克服する新しいクリーン環境のアプローチを解説します。
従来の常識では考えにくい清浄度・省エネ・柔軟性を実現するKOACH。 なぜそれが可能なのか――その仕組みを「気流の技術」「フィルタの技術」にわけて詳しく解説しています。
KOACHの気流技術は、従来の常識を覆す“開放状態でもクリーン空間を維持できる”独自の発想から生まれました。
作業環境改善用のプッシュプル型換気装置の気流技術を応用し、風速・風向が均一な「同一ベクトルの集合流」を対向させることで、空間の中央にまで安定した清浄空気を届ける「プッシュプッシュ気流」を実現。
囲いがなくてもコンタミナントの流入を防ぎ、クリーンガンも使えるほどの気流安定性と即時清浄化性能を両立しています。
以下の動画では、KOACHが半導体製造において求められる超高清浄度を実現する様子が紹介されています。機能がコンパクトにまとまっているので、ぜひご覧ください。
KOACHのもう一つの強みは、独自開発の高性能フィルタにあります。
開発元の興研は、長年にわたり粉じん用マスクを製造してきた防じん・ろ過技術を有する企業。その技術を活かし、微粒子を効率よく捕集しつつも、圧力損失が非常に低いナノファイバーフィルタを搭載することで、清浄度と省エネの両立を実現しました。
高性能ながら、フィルタ寿命も長いため、維持管理の負担も最小限に抑えられます。
| フィルタ製法 | FERENA（フェリナ） エレクトロスピニング法 |
市販ULPA メルトブロー法 |
|---|---|---|
| メリット | ナノレベルの紡糸が 可能 |
製造における 難易度が低い |
| デメリット | 高いレベルの 量産技術が必要 |
ナノレベルの紡糸は 不可能 |
| 同倍率写真 |  |
 |
クリーンルームの導入には、建設コストとランニングコストの両面で多くの費用がかかります。 本ページでは、清浄度別の費用相場と、コストに影響する主な要因についてわかりやすく解説します。
ISOやFEDなどの規格に基づく清浄度設計は、半導体製造の品質管理に直結します。
このページでは、各クラスの特性や適用工程に加え、クリーンルームの方式や費用の違いもあわせてご紹介しています。
温度変動や湿度の偏りは、静電気・酸化・膜厚変化といった不良の原因になります。
本ページでは、現場で押さえるべき温湿度の管理基準と、効率的な運用対策を解説します。
第6回ものづくり日本大賞「内閣総理大臣賞」など、数々の賞を受賞※1し、これまでに1,600社以上※2の企業・研究機関で導入されてきたKOACH。
その高い清浄性能と省エネ性、柔軟な運用性は、多様化するクリーン環境の課題に応える次世代のスタンダードとして高く評価されています。
実績と信頼に裏打ちされた本ソリューションは、今後さらに多くの製造現場や研究開発の最前線での活躍が期待されています。
囲いのない構造でISOクラス1の清浄度を実現する、次世代のクリーン環境システム「KOACH」。
本ページでは、その仕組みや特徴、各製品タイプの違い、導入メリット、ショールーム情報まで幅広く紹介しています。
半導体製造は、日本の地域経済の活性化に大きく貢献する重要な産業です。しかし近年では、原材料価格の高騰や光熱費の増加、さらに円安の影響により、各企業の努力だけでは乗り越えられない厳しい状況が続いています。
私たちのメディアは、こうした課題に対して有効なソリューションである「KOACH」の魅力や価値を、より多くの方々に届けることを目的としています。KOACHの認知拡大と導入促進を通じて、業界全体の変革と地域経済のさらなる発展に貢献していきます。
